最近,由于线宽均匀性要求越来越高,对于抗反射层的调节要求也越来越高。顾一鸣SB2020P46502AR和他的同事们报道了详细的研究E23]。~般情况下,抗反射层的折射率只能够做到接近理想值。人们在抗反射层加入一些吸收紫外光的成分,以减少反射光。光刻胶底部反射率随抗反射层的厚度变化一般会经历几个波峰和波谷,如图7.34(b)所示。由图可见,在第二极小点的波动明显比在第一极小点的波动小很多,这是因为抗反射层对光的吸收对多次反射的抑制。如果刻蚀允许,抗反射层的厚度可以选在第二极小,因为,反射率对抗反射层的厚度不敏感,有利于工艺控制。单层底部抗反射层可以将反射率控制在2%以下。到了65nm以下的节点,如45nm和32nm,单层抗反射层已经不能满足工艺的要求,于是就产生了双层抗反射层。

   双层抗反射层可以进一步减小反射率到0,2%以下。选定合适的抗反射层以及合适的厚度,有利于大幅减少光刻胶底部的反射,提高成像对比度,从而提高线宽均匀性。除了加入抗反射层,增加光敏剂的扩散也可以有效地减少驻波效应,不过这种方法是以牺牲像对比度为代价的。