线宽均匀性
发布时间:2017/10/26 21:10:34 访问次数:1662
半导体工艺中的线宽均匀性一般分为:芯片区域(chip)内、曝光区域(shot)内、硅片S-3530A(wafer)内、批次(lot)内、批次到批次之间(lot-to-lot)。影响线宽均匀性的因素以及影响范围的一般分析在表7.2中列出,从表7,2中我们可以发现:
(1)一般由于光刻机以及工艺窗口造成的问题影响面是比较广的。
(2)由于掩膜版制造误差或者由于光学邻近效应造成的问题一般仅局限于曝光区域内。
半导体工艺中的线宽均匀性一般分为:芯片区域(chip)内、曝光区域(shot)内、硅片S-3530A(wafer)内、批次(lot)内、批次到批次之间(lot-to-lot)。影响线宽均匀性的因素以及影响范围的一般分析在表7.2中列出,从表7,2中我们可以发现:
(1)一般由于光刻机以及工艺窗口造成的问题影响面是比较广的。
(2)由于掩膜版制造误差或者由于光学邻近效应造成的问题一般仅局限于曝光区域内。
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公网安备44030402000607
