通常对空间上有延伸的图形,诸如线或槽和接触孔,掩膜版误差因子都等于或大于1。 S2922AIF10-TF因为掩膜版误差因子的重要性在于它和线宽及掩膜版成本的联系,将它限制在较小的范围变得十分重要。例如,对线宽均匀性要求极高的栅极层,掩膜版误差因子通常被要求控制在1,5以下(针对90nm及更加宽的工艺)。

   直到最近,取得掩膜版误差因子的数据需要通过数值仿真或者实验测量。对数值仿真,如要达到一定的精确度需要依靠设定仿真参量的经验。如果需要得到掩膜版误差因子在整个光刻参量空间的分布信息,使用这类方法需要时间会比较长。其实,对密集线或槽的成像,掩膜版误差因子在理论上有解析的近似表达式。在空间周期p小于^/NA,而且线同槽的宽度相等的特殊条件下,在环形照明条件下,解析表达式可以简化。

   一分别适用于槽、线条。其中,σ为部分相干参数(0<σ<D,α为透射衰减掩膜版(Attenuatcd Phase Shifting Mask)中的振幅透射率因子(如对6%透射衰减掩膜版,α为o.25),″为光刻胶折射率(通常为1.7~1.之间),夕为在阈值模型情况下的等效光酸扩散长度(根据不同的技术节点,通常从32~45nm节点的5~10nm到0.18~0,25um节点的70nm)。