在电子以接近于光速做回旋运动时,会产生很强的电磁辐射。同步辐射为连续谱光源,如果取出其中特定波长范围的X射线,就可以用于曝光。 SDCL1005C2N7STDF同步辐射X射线光刻系统的基本组成如图10-狙所示。电子回旋产生强电磁辐射之后,通过特定的窗口引出X射线,在掩模板和硅片定位之后就可以进行曝光。

    图10-24 同步辐射X射线光刻系统的基本组成

    同步辐射的辐射功率主要集中于电子轨道平面附近,其张角ε很小。因此方向性强,准直性好,可以近似看做平行光源。光源的线度尺寸约为1mm,所以半阴影效应和几何畸变可以忽略不计。对于X射线光刻,即使只取同步辐射中的一部分,也可以得到1W的功率。同步辐射光源的这些突出优点,使它成为X射线光刻I程中重点研究的光源类型。目前同步辐射X射线光源的主要问题在于同步加速器体积太大,所以设计小型化的加速器是应用开发的主要方向。