生产激光图形发生器的Micronic于~9005年推出了⒊gma75o0,它与传统的激光图形发生器有所不同。Sigma7500采用Micro血c独家的⒊'M(Spaud ugllt Modulator)技术,S29GL032N90TFI040含有百万个镜片的⒏'M会将深紫外光(DUV)准分子激光反射到掩模板来产生光掩膜,可用于制备90nm、65nm、45nm技术节点量产用光掩模板。sgma7500在非对称性(AlllsOtrolDt)、最小线宽偏置、畸变校正(¤storton Correcto1△,和方角锐化(Corner Enhancemellt)等方面对图形进行处理,而这些处理是通过对像素的在线数据调整来实现的,不影响图形描绘速度。sigma7500增加的自检功能(Sd⒈Metro⒈ogy)改善了系统的精度,在最小线宽和定位精度上提高了25%,广域线宽均匀性(αobd CD Uni°rmity)和局域线宽均匀性(I冫0Cd CD UnJorm”)都有很大改善,并开发了在掩模板制造过程中对系统CD误差的校正功能。

  ⒛02年8月从Toshi阮Machine分离出来的NuFlare是一家生产电子束图形发生器的供应商,它在缩短图形描绘时间和改善局域线宽均匀性方面有所进展。通过采用高辉度电子枪和高精度、高稳定性的高压电源,以及低像差光学系统,同时采用高速、低噪声DAC放大器和最佳化的可变速载台动作方式,缩短图形描绘时间。目前提高掩模板生产效率的主要趋势是通过提高光刻胶的感光度,来增进感光剂的性能,但高感光度光刻胶的使用会减少电子的数量,电子数量的减少会导致电子数量的波动,这会使LER增大,导致LCDU恶化,这种现象称为Shot N0se。Shot N⒍∞是产生CD误差的主要原因,试验证明采用低感光度光刻胶,可以将CD误差减小到最低值。NuFlare的EBM-60O0已经达到32nm技术节点所需的描画精度。