腐蚀时,如果腐蚀液渗透光刻胶膜的边缘,会使图形边缘受到腐蚀,从而破坏掩蔽扩散的氧化层或铝条的完整性。若渗透腐蚀较轻,图形边缘出现针状的局部破坏, HAT3008RJ-EL-E习惯上就称为毛刺;若腐蚀严重,图形边缘出现“锯齿状”或“绣花球”样的破坏,称为钻蚀。当sQ等掩蔽膜窗口存在毛刺和钻蚀时,扩散后结面就很不平整,影响结特性,甚至造成短路。同时,光刻的分辨率和器件的稳定性、可靠性也会变坏。产生毛刺和钻蚀的原因有:

    ①基片表面存在污物、油垢、小颗粒或吸附水汽,使光刻胶与氧化层黏附不良,引起毛刺或局部钻蚀。

   ②氧化层表面存在磷硅玻璃,与光刻胶黏附不好,耐腐蚀性能差,引起钻蚀。

   ③光刻胶过滤不好,存在颗粒状物质,造成局部黏附不良。

   ④对于光硬化型光刻胶,曝光不足,显影时产生溶钻,腐蚀时造成毛刺或钻蚀。

   ⑤显影时间过长,图形边缘发生溶钻,腐蚀时造成钻蚀。

   ⑥掩膜图形的黑区边缘有毛刺状缺陷。