浮胶就是在显影和腐蚀过程中,由于化学试剂不断侵入光刻胶膜与sO2或其他薄膜间的界面,HAT3008R-EL-E所引起的光刻胶图形胶膜皱起或剥落的现象。所以,浮胶现象的产生与胶膜的黏附性有密切关系。显影时产生浮胶的原囚有:

   ①涂胶前基片表面沾有油污、水汽,使胶膜与基片表面黏附不牢。

   ②光刻胶配制有误或胶液陈旧、不纯,胶的光化学反应性能不好,与基片表面黏附能力差,或者胶膜过厚,收缩膨胀不均,引起黏附不良。

   ③烘焙时间不足或过度。

   ④曝光不是。

   ⑤显影时间过长,使胶膜软化。腐蚀时产生浮胶的原因有:

   ①坚膜时胶膜没有烘透,膜不坚固。

   ②腐蚀液配方不当。例如,腐蚀⒊02的氟化氢缓冲腐蚀液中,氟化铵太少,化学活泼性太强。

   ③腐蚀温度太低或太高。