和前烘一样,坚膜也是一个热处理步骤。坚膜就是在一定的温度下,对显影后的衬底进行烘焙。

   其的主要作用是除去光刻胶中剩余的溶剂,增强光刻胶对硅片表面的附着力,同时提HAT2199R-EL-E高光刻胶在刻蚀和离子注人过程中的抗蚀性和保护能力。坚膜的温度也称为光刻胶的玻璃态转变温度,通常要高于前烘和曝光后烘烤温度,在这个温度下,光刻胶将软化,成为类似玻璃体在高温下的熔融状态。这将使光刻胶的表面在表面张力的作用下而圆滑化,并使光刻胶层中的缺陷(如针孑L)因光刻胶表面的圆滑化而减少,并可借此修正光刻胶图形的边缘轮廓。

   通过坚膜,光刻胶的附着力会得到提高,这是由于除掉了光刻胶中的溶剂,同时也是热融效应作用的结果,因为热融效应可以使光刻胶与硅片之间的接触面积达到最大。较高的坚膜温度可使坚膜后光刻胶中的溶剂含量更少,但增加了去胶时的困难。而且,如果坚膜的温度太高(170℃以上),由于光刻胶内部拉伸应力的增加会使光刻胶的附着性下降,因此必须适当地控制坚膜温度,通常,在100-1遮0℃条件下放在烘箱内10~30分钟。