贯穿全文，我们会AD812AR-REEL7用不同的类推方法来帮助读者理解复杂的工艺过程。对于光刻工艺的一个很好的类比就是涂漆工艺。即使是一个业余的油漆匠也会很快学会，要想最终得到一个平滑而且结合很好的膜，表面必须干燥而且干净。这个道理在光刻工艺过程中同样也适用。为确保光刻胶能和晶圆表面很好地黏结，必须进行表面准备。这一步骤是由3个阶段完成的：微粒清除、脱水烘焙和晶圆涂底胶。

   晶圆几乎总是从一个清洁的区域来到光刻区域的，如氧化、掺杂、化学气相淀积。然而，晶圆在存储、装载和卸载到片匣过程中，可能会吸附到一些颗粒状污染物，而这些污染物是必须清除掉的。根据污染的等级和工艺的需要，可以用几种不同的微粒清除方法（见图8. 23）。最极端的情况是，可能会给晶圆进行化

学湿法清洗，这种方法和氧化前清洗比较相似，。岂包括酸清洗、水冲洗和烘于。所使用的酸必须要和晶圆表面层兼容。微粒清除方法和第7章所介绍的是相同的：手动吹扫、机械洗刷和高压水喷洗。 

   我们已经提到过，晶圆表面必须要干燥以增加它的黏附性。一个干燥的表面称做厌水性( hydrophobic)表面，它是一种化学件。在厌水性表面上液体会形成小滴，例如水在刚刚打完蜡的汽车表面会形成很多小水珠？厌水性表面有益于光刻胶的黏结。晶圆在进行光刻蚀加工之前表面通常是厌水性的。．