金属电极的真空蒸镀工艺
发布时间:2016/11/16 21:07:36 访问次数:6122
金属电极仍要在真空腔中进行蒸镀。金属电E2458NL极通常使用低功函数的活泼金属,因此在有机材料薄膜蒸镀完成后进行蒸镀。常用的金属电极有Mg/Ag、Mg∶Ag从g、Li/Al、ⅡF/Al等。用于金属电极蒸镀的舟通常采用钼、钽和钨等材料制作,以便用于不同的金属电极蒸镀(主要是防止舟金属与蒸镀金属起化学反应)。金属电极材料的蒸发一般用加热电流来表示,在我们的真空蒸镀设备上进行蒸镀实验,实验结果表明,金属电极材料的蒸发加热电流一般在70A~100A之间(个别金属要超过100A)、ITO样品基底温度在80℃左右、蒸发速度在约0,5nm~5nn√S、蒸发腔的真空度在7×10叫Pa~5×10“Pa时蒸镀的效果较佳。
器件封装工艺
oLED器件的有机薄膜及金属薄膜遇水和空气后会立即氧化,使器件性能迅速下降,因此在封装前绝不能与空气和水接触。因此,oLED的封装工艺一定要在无水无氧的、通有惰性气体(如氩气)的手套箱中进行。封装材料包括黏合剂和覆盖材料。黏合剂使用紫外固化的环氧固化剂,覆盖材料则采用玻璃封盖,在封盖内加装干燥剂来吸附残留的水分。
金属电极仍要在真空腔中进行蒸镀。金属电E2458NL极通常使用低功函数的活泼金属,因此在有机材料薄膜蒸镀完成后进行蒸镀。常用的金属电极有Mg/Ag、Mg∶Ag从g、Li/Al、ⅡF/Al等。用于金属电极蒸镀的舟通常采用钼、钽和钨等材料制作,以便用于不同的金属电极蒸镀(主要是防止舟金属与蒸镀金属起化学反应)。金属电极材料的蒸发一般用加热电流来表示,在我们的真空蒸镀设备上进行蒸镀实验,实验结果表明,金属电极材料的蒸发加热电流一般在70A~100A之间(个别金属要超过100A)、ITO样品基底温度在80℃左右、蒸发速度在约0,5nm~5nn√S、蒸发腔的真空度在7×10叫Pa~5×10“Pa时蒸镀的效果较佳。
器件封装工艺
oLED器件的有机薄膜及金属薄膜遇水和空气后会立即氧化,使器件性能迅速下降,因此在封装前绝不能与空气和水接触。因此,oLED的封装工艺一定要在无水无氧的、通有惰性气体(如氩气)的手套箱中进行。封装材料包括黏合剂和覆盖材料。黏合剂使用紫外固化的环氧固化剂,覆盖材料则采用玻璃封盖,在封盖内加装干燥剂来吸附残留的水分。
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