ITO作为阳极其表面状态直接影响空穴的注入和与有机薄膜层间的界面电子状态及有机材料的成膜性。如果ITO表面不清洁,其表面自由能变小, E2023NL从而导致蒸镀在上面的空穴传输材料发生凝聚、成膜不均匀。

   ITo表面的处理过程为:洗洁精清洗→乙醇清洗→丙酮清洗一纯水清洗,均用超声波清洗机进行清洗,每次洗涤采用清洗5分钟,停止5分钟,分别重复3次的方法。然后再用红外烘箱烘干待用。对洗净后的ITo玻璃还需进行表面活化处理,以增加ITO表面层的含氧量,提高ITo表面的功函数。也可以用比例为水:双氧水:氨水=5∶⒈1混合的过氧化氢溶液处理。

   清理ITo表面,使ITO表面过剩的锡含量减少而氧的比例增加,以提高ITo表面的功函数来增加空穴注入的概率,可使oLED器件亮度提高一个数量级。ITo玻璃在使用前还应经过“紫外线一臭氧”或“等离子”表面处理,主要目的是去除ITO表面残留的有机物、促使ITo表面氧化、增加ITo表面的功函数、提高ITo表面的平整度。未经处理的ITo表面功函数约为4.6cV,经过紫外线一臭氧或等离子表面处理后的ITo表面的功函数为5。OcV以上,发光效率及工作寿命都会得到提高。对ITo玻璃表面进行处理一定要在干燥的真空环境中进行,处理过的ITo玻璃不能在空气中放置太久,否则ITO表面就会失去活性。