离子溅射镀膜法
发布时间:2016/10/21 18:32:08 访问次数:861
在低真空(0.1~0.01乇①)状态下,在阳极与阴极两个电极之间加上几百伏至上千伏的直流电压时,OMAPL138BZWTD4电极之间会产生辉光放电。在放电的过程中,气体分子被电离成带正电的阳离子和带负电的电子,在电场的作用下,阳离子被加速跑向阴极,而电子被加速跑向阳极。如果阴极用金属作为电极(常称靶极),那么在阳离子冲击其表面时,就会将其表面的金属粒子打出,这种现象称为溅射。
此时被溅射的金属粒子是中性,即不受电场的作用,而靠重力作用下落。如果将样品置于下面,被溅射的金属粒子就会落到样品表面,形成一层金属膜,用这种方法给样品表面镀膜,称为离子溅射镀膜法。
特点:
(1)低电压冷溅射。
(2)全自动操作,可控制独立的真空泵。
(3)可预设沉积厚度,均匀厚度沉积,全自动控制,膜厚度重复性好。
在低真空(0.1~0.01乇①)状态下,在阳极与阴极两个电极之间加上几百伏至上千伏的直流电压时,OMAPL138BZWTD4电极之间会产生辉光放电。在放电的过程中,气体分子被电离成带正电的阳离子和带负电的电子,在电场的作用下,阳离子被加速跑向阴极,而电子被加速跑向阳极。如果阴极用金属作为电极(常称靶极),那么在阳离子冲击其表面时,就会将其表面的金属粒子打出,这种现象称为溅射。
此时被溅射的金属粒子是中性,即不受电场的作用,而靠重力作用下落。如果将样品置于下面,被溅射的金属粒子就会落到样品表面,形成一层金属膜,用这种方法给样品表面镀膜,称为离子溅射镀膜法。
特点:
(1)低电压冷溅射。
(2)全自动操作,可控制独立的真空泵。
(3)可预设沉积厚度,均匀厚度沉积,全自动控制,膜厚度重复性好。
上一篇:各功能层成膜的主要工艺方法
上一篇:ELD的用途
热门点击