分布布拉格反射镜(DBR)是以ABABAB・……形式交FM25640-G 错生长的若干对两种(或者两种以上)的半导体或介质材料,以此来获得对某一光学波段的高反射率。制作布拉格反射镜需要选择折射率大和折射率小的两种材料分别作为交错生长的膜层,它们对入射光是透明的。因此用于做DBR的材料有两种:半导体材料和介质材料。在LED芯片制作领域中,用半导体材料做DBR最长用在GaAs衬底AlGaInP四元系红黄光LED上,因为GaAs对红黄光是不透明的,因此做成垂直结构LED红黄光LED时,在外延生长时将DBR结构制作 好,可以一方面用于导通电流制备垂直结构LED,另一方面用于反射有源区朝下发射的光,避免不透光的GaAs衬底吸光导致光损失。但是半导体材料之间的折射率差别较小,所以用半导体材料做DBR通常需要较多的层数才能得到高反射率。而且在采用半导体材料做成DBR时,采用两个禁带宽度不同的半导体做DBR时,半导体之间会产生导带及价带的带偏移,以致在界面处产生势垒,阻碍载流子的流通。同时用半导体材料做DBR时还要求衬底和它们之间晶格匹配以减小应力。用介质材料做DBR,可以选择折射率相差较大的材料来制备,因此用较少的对数就可以实现较高的反射率。

   用于制作DBR的两种材料的折射率差值越大,DBR的反射带宽越宽,达到一定反射率所需要生长的材料对数也越少。设衬底的折射率为刀s,高折射率膜层折射率为r9H,低折射率膜层折射率为rcL,整个体系处的环境材料折射率为P9A,如果整个体系处在空气中,则

刀A=1。为了达到更高的反射率,最外层为高折射率膜层,而当膜层总数为偶数(2〃)时,反射率.