N电极和盖在透明导电层(ITO)上的P电极焊盘
发布时间:2016/8/7 18:38:29 访问次数:1295
正装芯片上的反射EP1C4F324C8电极结构一般是在透明导电层上进行,即在ro上或者Ni/Au膜系上。J.K shcu等人卩刨用非合金(Ag/C〃Au或者Al/C〃Au)的金属膜系作为盖在n~GaN上的 N电极和盖在透明导电层(ITO)上的P电极焊盘,如图5-20所示。相对以C〃Au金属膜系作为电极焊盘和欧姆接触层的传统LED而言,非合金金属膜系充当了防止类似低接触电阻率但是吸光的Cr/Au膜系的反射镜。在⒛lllA驱动下,具有Ag或者川反射镜的LED样品比CI・/Au电极样品亮度高14%。
正装芯片上的反射EP1C4F324C8电极结构一般是在透明导电层上进行,即在ro上或者Ni/Au膜系上。J.K shcu等人卩刨用非合金(Ag/C〃Au或者Al/C〃Au)的金属膜系作为盖在n~GaN上的 N电极和盖在透明导电层(ITO)上的P电极焊盘,如图5-20所示。相对以C〃Au金属膜系作为电极焊盘和欧姆接触层的传统LED而言,非合金金属膜系充当了防止类似低接触电阻率但是吸光的Cr/Au膜系的反射镜。在⒛lllA驱动下,具有Ag或者川反射镜的LED样品比CI・/Au电极样品亮度高14%。
相关技术资料- 8-7N电极和盖在透明导电层(ITO)上的P电极焊盘
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