位置:51电子网 » 技术资料 » EDA/PLD

前烘

发布时间:2016/8/3 21:57:52 访问次数:625

   在晶片的表面很容易吸附水汽,水汽的存在将严重影响光刻胶与晶片的黏附性,因此LED芯片制造的环境除了温度、洁净度外,对

空气湿度也有特别的要求。JST7815CV一般要求在空气湿度保持在50%左右,'湿度太高,LED芯片性能和制造优良率受水汽影响;湿度太低则容易产 生静电,如不能及时将静电导走,极易发生静电击穿事件。光刻的前烘一般是在20O~250℃左右的不断通入惰性气体(如氮气)的烘箱或者热板中进行。且前烘处理完毕后,应将晶片放于冷板上迅速冷却,并马上开始涂胶工序,目的是防止水汽重新吸附到晶片表面。

     

 


   在晶片的表面很容易吸附水汽,水汽的存在将严重影响光刻胶与晶片的黏附性,因此LED芯片制造的环境除了温度、洁净度外,对

空气湿度也有特别的要求。JST7815CV一般要求在空气湿度保持在50%左右,'湿度太高,LED芯片性能和制造优良率受水汽影响;湿度太低则容易产 生静电,如不能及时将静电导走,极易发生静电击穿事件。光刻的前烘一般是在20O~250℃左右的不断通入惰性气体(如氮气)的烘箱或者热板中进行。且前烘处理完毕后,应将晶片放于冷板上迅速冷却,并马上开始涂胶工序,目的是防止水汽重新吸附到晶片表面。

     

 


上一篇:光刻工艺的基本步骤

上一篇:涂胶

相关技术资料
8-3前烘
相关IC型号
JST7815CV
暂无最新型号

热门点击

 

推荐技术资料

声道前级设计特点
    与通常的Hi-Fi前级不同,EP9307-CRZ这台分... [详细]
版权所有:51dzw.COM
深圳服务热线:13751165337  13692101218
粤ICP备09112631号-6(miitbeian.gov.cn)
公网安备44030402000607
深圳市碧威特网络技术有限公司
付款方式


 复制成功!