根据表1砭中氢化物的分子量,可以计算每次外延生长氢化物的使用量。例如,BAS40生长过程中P比的流量为⒛0sccm,则PHl的mol流量为⒛0/22414=8,9×103mol/min,质量流量为8,9×1Cl3mol/min×34g/mol=0.3g/min。如果照此流量通PH3的时间为2小时,则PH3的使用量为0,3g/min×120min=36g。

   MOCVD中的载气又称运载气体,其作用是将参与外延的源材料快速输运到反应室,对载气的基本要求是纯度高、成本低,且不参与外延过程中的化学反应。常用于MOCVD的载气有H2和惰性气体N2和Ar等。相对于N2来说,H2作为载气在MOCVD中的应用更为广泛,其主要原因是比更容易纯化。经钯管纯化后的比纯度在8N以上,且比具有还原性、便于清洁管道。近年来,因氮气分子量较大,载气输运效果好,己被采用作为GaN基LED外延生长时Mo源供应系统的主要载气。而在反应腔外延生长中,不同的外延单层结构需要不同的氢气和氮气混合比例,这样,通常在主管路进到反应腔时,会根据生长需 要采用不同配比的氢气和氮气。在生产安全上,需要注意的是H2遇空气可能形成易燃、易爆的混合气,必须严格按规范进行操作和使用。N2的作用除了和比一样作为载气外,还利用它的惰性进行安全操作和维护处理。使用N2时,一定要配置有效的通风和排气,以免缺氧窒息。