MOCVD设备简介
发布时间:2016/7/27 22:03:32 访问次数:3010
MOCVD设备中一般包括原材料气源供应系统、电气及自动控制系统,以及原位监测系统,如图15所示。 HD64F2357F20反应室是整个MOCVD设备最为核心的部分。
原材料气源供应系统的功能是向反应室内输运和提供各种反应气源。通过配置高精密的质量流量计、压力控制计、特殊设计的精密阀门等,该系统可以精确控制气源的供应量、供应时间和顺序,以及流过反应室的总气体流量与流速等,生长出所需要的高质量外延材料。气源供应系统主要包括Mo源供应子系统、氢化物供应子系统和特殊设计的生长/放空(Run/Vcnt)多路组合阀等组成。
MOCVD设备中一般包括原材料气源供应系统、电气及自动控制系统,以及原位监测系统,如图15所示。 HD64F2357F20反应室是整个MOCVD设备最为核心的部分。
原材料气源供应系统的功能是向反应室内输运和提供各种反应气源。通过配置高精密的质量流量计、压力控制计、特殊设计的精密阀门等,该系统可以精确控制气源的供应量、供应时间和顺序,以及流过反应室的总气体流量与流速等,生长出所需要的高质量外延材料。气源供应系统主要包括Mo源供应子系统、氢化物供应子系统和特殊设计的生长/放空(Run/Vcnt)多路组合阀等组成。
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