一般使用的氧化剂有过氧化氢(比o2)、亚硫酸氨[αH4)2S20:]、硝酸(IINα)和臭氧(α)。

    过氧化氢和硫酸混合制成一种常见的清洗液,用于各个工艺过程之前,尤其是炉工艺之前晶圆的清洗。 OP262GSZ-REEL它也可用做光刻操作中光刻胶的去除剂。在业内,这种配方有多种命名,包括Caro酸和Rranha刻蚀(Ⅱranha是一种非洲的食人鱼)。

   Pirallha是一种强效的清洗溶液,它联合使用硫酸(H2so4)和过氧化氢(H202)去除硅片表面的有机物和金属杂质。Rranha在工艺的不同步骤中使用,有时在sC-1和sC-2清洗步骤之前。最为常见的组分是7份浓缩的H2so4和3份 30%(按体积)的比02。通常的方法是把硅片浸入Piranha溶液中19min,紧接着用去离子水清洗。Caro酸(Caro’s acid)是Rranha的变种,它通过混合380份浓缩H2So4、17份30%H202和1份超纯水制备而成。

   一种手动的方法是在盛有常温的硫酸容器中加入30%(体积)的过氧化氢。在这一比例下,发生大量的放热反应,使容器的温度迅速地升到了110~130℃的范围。随着时间发展,反应逐渐变慢,反应池的温度也降到有效范围内。这时,往反应池中添加额外的过氧化氢或不再添加。过量地添加过氧化氢会使硫酸稀释而导致清洗效率降低。

    在自动系统中,硫酸被加热到有效清洗的温度范围内。在清洗每一批晶圆前,再加入少量(50~100mL)的过氧化氢。这种方法保证清洁池处于合理的温度下,同时由过氧化氢产生的水可通过汽化离开溶液。基于经济和工艺控制因素的考虑,一般选用加热硫酸这一方法。这种方法也使两种化学物质的混合比较容易自动实现。

   氧化剂添加剂的作用是给溶液提供额外的氧,有些公司将臭氧的气源直接通入硫酸的容器。臭氧和去离子水混合是一种去除轻微的有机物污染的方法,典型的工艺是将1~细pm的臭氧通入去离子水中,在室温下持续10min。