在制造工厂中,用于刻蚀和清洗晶圆和设备的酸、碱、溶剂必须是最高纯度的。OP249GP涉及的污染物有金属离子微粒和其他化学品。与水不同的是,工艺化学品是采购来的,直接运输到工厂后使用。工业化学品分不同级别,它们分一般溶剂、化学试剂、电子级和半导体级。前两种对于半导体使用来说过脏,电子级与半导体级相对洁净些,但不同制造商所生产化学品的洁净度也是不同的。类似sEMI这样的商业组织为整个行业建立了洁净度的规格,但是大多数半导 体厂按照自己内部的规格采购化学品。化学品的主要污染是移动的金属离子,通常须限制为百分之一(PPM)级或更低。一些供应商可制造MIC级的化学品,含量仅仅为十亿分之一。微粒过滤器的级别被规定为0,2um或更低。

   化学品的纯度由成分来表示。成分数就是指容器内所含化学品的百分数。例如,一瓶99.9%的硫酸表示含有99.9%的纯硫酸和0.01%的其他溶液。把化学品传输至工艺加工区域不只要求保持化学品的洁净,还包括对容器内表面的清洁、使用不易溶解的材质的容器、不产生微粒的标志牌,并在运输前把瓶放置化学品袋中。