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在晶圆或器件表面进行扫描

发布时间:2015/11/10 20:18:07 访问次数:931

   以上三个局限性在使用扫描电镜时都能够克服。扫描电镜相对于光学显微镜有很多改IRF530NPBF其光源是电子束,在晶圆或器件表面进行扫描,电子碰撞晶圆表面,使晶圆表面的一些电子逃逸出来,然后这些二次电子被收集并被转换成表面图像,显示在屏幕和照(见图14. 23)

   扫描电镜(SEM)分析需要将晶圆和电子束均置于真空中二电子束波长远比白光波长短,它允许表面细节分辨率降至皿微米水平,景深问题不再存在,并且表面平面都处于聚焦状态

   类似地,放大倍数非常高,实际上限已达到50 000倍:在扫描电子显微镜下,一种倾斜的晶圆固定器实现厂以一定角度观察晶圆表面,这一点增强维视觉效果(见图14. 24),使得表面细节和特征能够在·个比较有利的方向上观察.

    

   一嵝材料如光刻胶,在电子束轰击下不能发射二次电子j但在扫描电子显微镜下检测光刻胶层时,光刻胶层会被一层烘f的黄金覆盖。黄金层与光刻胶层的外形相符,在电子束轰击下,黄金层会发射二次电子,所以可以形成扫描电子显微镜图片,这是…个严格的光刻胶层复制品.


   以上三个局限性在使用扫描电镜时都能够克服。扫描电镜相对于光学显微镜有很多改IRF530NPBF其光源是电子束,在晶圆或器件表面进行扫描,电子碰撞晶圆表面,使晶圆表面的一些电子逃逸出来,然后这些二次电子被收集并被转换成表面图像,显示在屏幕和照(见图14. 23)

   扫描电镜(SEM)分析需要将晶圆和电子束均置于真空中二电子束波长远比白光波长短,它允许表面细节分辨率降至皿微米水平,景深问题不再存在,并且表面平面都处于聚焦状态

   类似地,放大倍数非常高,实际上限已达到50 000倍:在扫描电子显微镜下,一种倾斜的晶圆固定器实现厂以一定角度观察晶圆表面,这一点增强维视觉效果(见图14. 24),使得表面细节和特征能够在·个比较有利的方向上观察.

    

   一嵝材料如光刻胶,在电子束轰击下不能发射二次电子j但在扫描电子显微镜下检测光刻胶层时,光刻胶层会被一层烘f的黄金覆盖。黄金层与光刻胶层的外形相符,在电子束轰击下,黄金层会发射二次电子,所以可以形成扫描电子显微镜图片,这是…个严格的光刻胶层复制品.


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