光学图像剪切尺寸测量
发布时间:2015/11/10 20:05:11 访问次数:898
用于显微镜的图像剪切方法是另一个关键尺寸测量方法。,它的设备控制允许操作员通过肉眼直接将图案分成两个图像。,开始测量时,IRF520N两个图像相互独立(见图14. 17),然后移动它们直到完全重合,初始值和终值的差异便是图形的宽度。像准线装置一样,图像对装置也必须经标准方法校正。虽然便宜且方便使用,但这种方法限于大于l¨m的宽度。
下面关于扫描电镜( SEM)检测仪的描述同样用于精确的线宽测量。在纳米时代,当便用铜金属化时,还对r解和控制在孑L洞或表面岛区的截面形状(3D形状度量衡学)产牛兴趣(见图I4. 18).,可以用成熟的SEM实现这项任务,SEM直接将电子束扫过上表面、侧面和底面以重构精确的图形。测量直接在晶圆E进行。,一个缺点是光学关键尺寸( OCD)8;不能测量孤立的线条。主要目标是让OCD系统直接集成到工艺设备中,提供实时测量和工艺控制(见图14. 19)。
用于显微镜的图像剪切方法是另一个关键尺寸测量方法。,它的设备控制允许操作员通过肉眼直接将图案分成两个图像。,开始测量时,IRF520N两个图像相互独立(见图14. 17),然后移动它们直到完全重合,初始值和终值的差异便是图形的宽度。像准线装置一样,图像对装置也必须经标准方法校正。虽然便宜且方便使用,但这种方法限于大于l¨m的宽度。
下面关于扫描电镜( SEM)检测仪的描述同样用于精确的线宽测量。在纳米时代,当便用铜金属化时,还对r解和控制在孑L洞或表面岛区的截面形状(3D形状度量衡学)产牛兴趣(见图I4. 18).,可以用成熟的SEM实现这项任务,SEM直接将电子束扫过上表面、侧面和底面以重构精确的图形。测量直接在晶圆E进行。,一个缺点是光学关键尺寸( OCD)8;不能测量孤立的线条。主要目标是让OCD系统直接集成到工艺设备中,提供实时测量和工艺控制(见图14. 19)。
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