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载流子激发结深

发布时间:2015/11/10 20:03:00 访问次数:804

   裁流子激发是一种非破坏性结深测量技术,对于由离子注入的浅结特别有用7  它用,IRF4905SPBF个激光“点”(2斗m)在结区上方触发(见图14.16)二随着激光束进入晶圆并穿过结区,在结处有过剩载流子堆积.第二束激光被过剩载流子区反射掉。通过分析那里的反射信号,确定结的深度。

     

   这种系统可以测量检测晶圆或直接在生产晶圆上测量结深,并且可以用做在线工艺控制测量。

   关键尺寸和线宽测量

   电路中每个元件所需的精确尺寸都要受全部工艺的控制和影响。垂直尺寸由掺杂和薄膜T艺设定,水平面尺寸在光刻工艺形成,而作为此工艺的一部分,关键尺寸(CD)会在显影后的显微镜榆测和最终显微镜检测时测量。

   这些技术包括低技术显微镜图像对比、SEM、散射仪、原子力显微镜(AFM)和器件电学测量.


   裁流子激发是一种非破坏性结深测量技术,对于由离子注入的浅结特别有用7  它用,IRF4905SPBF个激光“点”(2斗m)在结区上方触发(见图14.16)二随着激光束进入晶圆并穿过结区,在结处有过剩载流子堆积.第二束激光被过剩载流子区反射掉。通过分析那里的反射信号,确定结的深度。

     

   这种系统可以测量检测晶圆或直接在生产晶圆上测量结深,并且可以用做在线工艺控制测量。

   关键尺寸和线宽测量

   电路中每个元件所需的精确尺寸都要受全部工艺的控制和影响。垂直尺寸由掺杂和薄膜T艺设定,水平面尺寸在光刻工艺形成,而作为此工艺的一部分,关键尺寸(CD)会在显影后的显微镜榆测和最终显微镜检测时测量。

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