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必须由第二次图形化工艺来产生携带第二层金属的沟槽

发布时间:2015/11/9 19:44:56 访问次数:614

   实际艺更复杂一点。在一个多层AD8014ARTZ-REEL7金属系统中,必须有一层直接将第一层金属与器件电连接。必须由第二次图形化工艺来产生携带第二层金属的沟槽,因此称为双大马士革( dual-damasCene).、图13. 17描述了一个典型的连接两层金属的双大马士革工艺。它从已经有一层金属的地方开始。淀积一层低七介质并用CMP工艺对其平坦化。:用图形化工艺在介质层中产生一个通孔。第二次图形化工艺导致介质降低,并在表面开出更宽的“台阶”( step bac:k)槽。这个图形留下开口更宽的顶层盆,它可以允许足够的宽度为铜条携带要求的电路等级。这个顺序提供了填充通孔和形成铜金属导线一步完成的优势。基于这一基本的双大马士革丁艺有一些变形方式,每种都是一个窄的通孔相为金属填充而备的较宽的沟槽开1来结尾。

       

   实际艺更复杂一点。在一个多层AD8014ARTZ-REEL7金属系统中,必须有一层直接将第一层金属与器件电连接。必须由第二次图形化工艺来产生携带第二层金属的沟槽,因此称为双大马士革( dual-damasCene).、图13. 17描述了一个典型的连接两层金属的双大马士革工艺。它从已经有一层金属的地方开始。淀积一层低七介质并用CMP工艺对其平坦化。:用图形化工艺在介质层中产生一个通孔。第二次图形化工艺导致介质降低,并在表面开出更宽的“台阶”( step bac:k)槽。这个图形留下开口更宽的顶层盆,它可以允许足够的宽度为铜条携带要求的电路等级。这个顺序提供了填充通孔和形成铜金属导线一步完成的优势。基于这一基本的双大马士革丁艺有一些变形方式,每种都是一个窄的通孔相为金属填充而备的较宽的沟槽开1来结尾。

       

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