外延膜的质量：工艺中首要关注的就是外延膜的质量。除了通常考虑的污染之外，还有HCPL-0710一些是外延生长的瑕疵。被污染的系统可能引起称为雾霾( haze)的问题拉引。雾霾是一种表面的疑难问题，可从微米级破损变化到可见的灰暗不光滑表面。雾霾来源于残存在反应气体中的氧气或系统泄漏。

   在开始淀积时，对淀积表面的污染将引起加速生长，称为“尖刺”( spike)（见图12. 30）。，尖刺的高度可能与薄膜的厚度相同，、它们会在光刻胶层或其他的淀积膜中产生}同和断裂。

   生长期间可能发生一些结晶问题，其中之一是堆垛层错( stacking faults)。堆垛层错是由于原子面周围产生“位错”( dislocation)的相关原子组成的多余原子面。堆垛层错在表面形成并“生长”到薄膜的表面。堆垛层错的形状依赖于薄膜和晶圆定向。在<111>晶向，薄膜的堆垛层错具有锥形的形状（见图12. 31）；而<100)面的晶圆形成方形的堆垛层错。堆垛层错可以采用X射线或刻蚀技术进行检测。