外延( epitaxial)一词来源于希腊文，意为“安排在上面”。在半导体技术中，GS7966-424-116BBZ指薄膜的单晶结构。在CVD反应室内，硅原子被淀积在裸露的晶圆上，形成单晶结构（见图12. 27）。，当对化学反应剂进行有效控制，并且正确设置了系统的参数时，具有足够能量的淀积原子到达晶圆表面，并在其表面游动，将自身调整到与晶圆原子的晶体方向相一致。这样，淀积在<111>晶向的晶圆上便生长成<111>晶向的外延层。

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   另外，如果晶圆的表面有一层薄的二氧化硅、非晶态层表面或污染物‘22，则会影响淀积原子的正确定位，结果导致薄膜结构为多晶硅。这种情形可在某些方面，如MOS栅中得以应用。但对于单晶的薄膜结构，则并不希望多晶的出现。