驻波
发布时间:2015/11/3 20:05:33 访问次数:1891
在10.5.2节已提到理想的曝光状态应该是辐射光波与晶圆表面成900角直接照射。NCP305LSQ28T1如果只考虑反射现象，上面这句话足对的。然而，垂直照射会引起另外一个问题，那就是驻波。，当光线从晶圆表面反射回光刻胶时，反射光线会与入射光线发生相长干涉或相消干涉现象，从而形成能量变化区（见图10. 24）。显影后，形成波纹侧墙和分辨率的损失。有许多办法町以改善驻波问题，包括在光刻胶中添加染色剂和分别将防反射涂层直接涂在晶圆表面。大多数正胶工艺都在光刻胶显影前加入曝光后烘焙( PEB)。烘焙的目的是减少驻波对图形侧墙的影响。
在10.5.2节已提到理想的曝光状态应该是辐射光波与晶圆表面成900角直接照射。NCP305LSQ28T1如果只考虑反射现象，上面这句话足对的。然而，垂直照射会引起另外一个问题，那就是驻波。，当光线从晶圆表面反射回光刻胶时，反射光线会与入射光线发生相长干涉或相消干涉现象，从而形成能量变化区（见图10. 24）。显影后，形成波纹侧墙和分辨率的损失。有许多办法町以改善驻波问题，包括在光刻胶中添加染色剂和分别将防反射涂层直接涂在晶圆表面。大多数正胶工艺都在光刻胶显影前加入曝光后烘焙( PEB)。烘焙的目的是减少驻波对图形侧墙的影响。
相关技术资料- 11-3驻波
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