掩模版／放大掩模版制作依据最初的曝光方法（图形产生、激光、电子束）和最后的结果（放大掩模版或掩模版）有许多不同的方法（见图9. 28）。EL2041CSZ流程图A说明了使用图形发生器的方法制作掩模版的工艺，这是一种较老的技术方法。图形发生器由一个光源和一系列电机驱动的快f]组成。带有光刻胶的镀铬掩模版／放大掩模版在光源下随着快门的打开而移动，来使光形成的精确图形照射到光刻胶上产生预期的图形。放大掩模版图形以一种步进一重复的工艺被转移到涂有光刻胶的空白掩模版来形成一个母版。母版用来在一个接触复印机上制作多重工作掩模版。这种设备将母版与涂有光刻胶的空白掩模版接触并有一个用于图形复制的紫外( UV)光源．，每个曝光步骤完成后（图形产生、激光、电子束、母版曝光和接触复印），放大掩模版／掩模版通过显影、目检、刻蚀、去光刻胶和目检最终把图形永久地复制到镀铬层上。，目检t分关键，因为任何未探测到的错误和缺陷将会潜在地造成数千个晶圆报废。这种用途的放大掩模版一般是茌光刻掩模版上的最终镀铬的5—20倍30。