硫酸和氧化剂溶液：EL2028CSZ硫酸和氧化剂溶液（过氧化氢或过硫酸铵22）是最常用的去除无金属表面( nonmetallic surfaces)光刻胶层的去除剂。无金属表面是二氧化硅、氮化硅或多晶硅。，这种溶液可去除负光刻胶和正光刻胶．，相同的化学溶液和工艺用于在第7章描述的预炉管清洗晶圆中。

   硝酸有时作为在硫酸清洗池中的添加氧化剂。典型的混合比为10：1。硝酸有一个缺点是会把清洗池变成淡橘黄色而遮盖住池中碳的积累。所有这些溶液都以氧化机理来溶解光刻胶。

  有金属表面的湿法化学击除

   从有金属表面去除光刻胶是一个比较困难的工作，因为金属会受到侵蚀或氧化。有4种类型的液体化学品用于去除有金属表面的光刻胶：

   1．有机去除剂。

   2．溶剂去除剂。

   3．溶剂／胺去除剂。

   4．特殊去除剂。

   酚有机去除剂：有机去除剂包含磺酸（有机酸）和氯化碳氢溶剂的组合，例如duodexabenzene。配方要求苯酚形成可冲洗的溶液。在20世纪70年代，由于对这些配方中有毒成分的担心而导致了磺酸、非酚的、非氯化的i驯去除剂的开发。去除光刻胶要求将溶液加热到900C—120。C的范围。丁艺中常使用2个或3个加热的去除池。清洗以两步进行，第一步是溶剂，然后用水清洗，其后是干燥工序。