喷雾式显影：最受欢迎L3037QN-B6的化学显影方法是喷雾式的。事实上，通常有很多原因使喷雾式工艺对于任何湿法工艺（清洁、显影、刻蚀）来讲比沉浸式工艺更受欢迎。例如，用喷雾式系统可大大降低化学品的使用。工艺的提高包括由于因喷雾压力的机械动作而限定光刻胶边缘和去除部分光刻胶块而带来较好的图案清晰度。因为每个晶圆都是用新的化学显影液（或刻蚀、或清洗），所以喷雾式系统总是比沉浸系统清洁。

  喷雾式工艺可在单片或批量系统中完成。在单片晶圆配置中（见图9.7），晶圆被真空吸在吸盘上并旋转，同时显影液和冲洗液依次喷射到晶圆表面。冲洗之后，立即提高晶圆吸盘旋转速度将晶圆甩干。在外观和设计上，单晶圆喷雾式系统和旋转式涂胶机一样只是通入不同的化学品。单晶圆喷雾式系统具有町集成显影和硬烘焙工艺而实现自动化的优点。这些工艺系统的一个主要优点是直接喷洒到晶圆表面的化学品的均匀性的提高。

   正光刻胶显影液对于温度比负光刻胶更敏感。问题在于液体在压力下从喷嘴喷出后便很快冷却。称为隔热冷却( adia-

batic cooling)，用于正光刻胶的喷射显影系统通常由加热的晶圆吸盘或加热的喷嘴来控制温度。用于正光刻胶的喷射显影所遇到的其他问题，是当使用碱显影液和水基显影液喷出时产生的泡沫而造成机器的老化。批量显影系统有两种形式：单舟和多舟。这些机器是旋转冲洗甩干，这在第7章中有所描述。显影系统要求额外的管道来供应显影化学品。多批显影系统一般比直接喷射单晶圆系统的均匀性低，因为它不是喷射到每个晶圆的表面上，并且正光刻胶工艺的温度控制更加复杂。