接近式光刻机：接近式光K7R161882B-FC25000刻机是接触式光刻机的自然演变。该系统本质上是—个接触式光刻机，只是带有使晶圆近距离接触或软接触掩模版的机械装置。有时接近式光刻机也称为软接触机器( soft-contact machine)。

   接近式光刻机的性能表现是分辨率与缺陷密度的折中。当晶圆与掩模版软接触时，总会有一砦光发散，这样会使光刻胶上的图形模糊。而另一方面，软接触可以使由掩模版和光刻胶的损伤所导致的缺陷数量大大减少。但即使缺陷密度得以改善，接近式光刻机在超大规模集成电路( VLSI)的光刻掩膜工艺中也少有用武之地。         

   扫描投影光刻机：接触式光刻机的末期持续了几年时间，在此期间探索和开发一神替代品的工作也在进行之中。探索工作的中心思想是将掩模版上的图形投影到晶圆表面t（见图8. 46），很像是幻灯片（掩模版）被投影到屏幕（晶圆）上。然而，看似简单，在技术上却要有一个极佳的光学系统才能准确地将掩模版上

的尺寸在光刻胶上曝光。这个问题随着Perkin Elmer的扫描投影光刻机引入而得以解决。Perkin Elmer使用扫描技术，避免r全局掩膜投影曝光产生的问题。它采用了一个带有狭缝的反射镜系统，狭缝挡住了部薄膜分来自光源的光。，这个系统有一个新的参数需要控制：扫描速度( scan speed)。由于掩模版上的图形尺寸与在晶圆表面想要得到的图形尺寸相同，因此这种光刻机称为I:l光刻机。