图形尺寸变小；(b)暗场掩模版和正胶组合，图形尺寸变大对于大多数掩模版来说， AD9923XBCZ图形大部分都是空洞。用正胶和暗场掩模版组合还可以在晶圆表面得到附加的针孔保护（见图8. 19）。亮场掩模版在玻璃表面会倾向于有裂纹。。这些裂纹称为玻璃损伤( glassdamage)，它会挡住曝光源而在光刻胶表面产生不希望的小孔，结果就会在晶圆表面刻蚀出小孔。那砦在光刻胶透明区域上的污垢也会造成同样的结果。在暗场掩模版卜^，大部分都被铬覆盖住了，所以不容易有针孔出现。因此，晶圆表面也就会有比较少的孔洞，对于非常小的图形面积，正胶是唯一的选择。

   图8.19  (a)有污垢和玻璃损伤裂纹的亮场掩模版；(b)最影后在负胶七的结果

   去除光刻胶也是一个因素。总体来说，去除正胶会叱去除负胶要容易，它发生在那些受环境影响比较小的化学品中。生产器件和电路的制造领域，对于那些图形尺寸大于2ILm的工艺还是在用负胶。图8. 20显示了这两种类型光刻胶属性的比较。

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