用正光刻胶和亮场掩模版转移以产生岛区
发布时间:2015/10/30 22:00:31 访问次数:1277
刚刚我们介绍了对光有负效应的光刻胶，称为负胶。同样还有对光有正效应的光刻胶，AD8603AUJ-REEL7称为正胶。光可以改变正胶的化学结构从不可溶到可溶。这种变化称为光致溶解( photosolu-bilization)。图8.7显示了用正胶和亮场掩模版在晶圆表面产生岛区的情况。
图8.8显示了用不同极性的掩模版和不同极性的光刻胶相结合而产生的结果。通常来讲，我们是根据控制尺寸和防止缺陷的要求来选择光刻胶和掩模版极性，从而使电路工作的。这些问题会在本章的工艺部分中讨论。 ．
刚刚我们介绍了对光有负效应的光刻胶，称为负胶。同样还有对光有正效应的光刻胶，AD8603AUJ-REEL7称为正胶。光可以改变正胶的化学结构从不可溶到可溶。这种变化称为光致溶解( photosolu-bilization)。图8.7显示了用正胶和亮场掩模版在晶圆表面产生岛区的情况。
图8.8显示了用不同极性的掩模版和不同极性的光刻胶相结合而产生的结果。通常来讲，我们是根据控制尺寸和防止缺陷的要求来选择光刻胶和掩模版极性，从而使电路工作的。这些问题会在本章的工艺部分中讨论。 ．
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