喷洒式冲洗：RT9173BGS流动的水通过稀释的机械原理将晶圆表面水溶性的化学物质除去。最表层的化学物质溶解于水并被水流携带走。这种动作在一次一次不间断地进行。较快的水流速可以更快地将化学物质溶解，从而使冲洗速度提高。水的更换次数直接决定r冲洗的速度。这可以通过想象以一个非常快的水流速度在一个非常大的冲洗池中进行的冲洗来理解。从晶圆表面去除掉的化学物质会均匀地分布在冲洗池中，因此一部分化学物质也仍然将会附着在晶圆表面。只有通过足够多的水流进，并携带着化学物质流出冲洗池，才可将化学物质最终从池中排出。

   另一种冲淋速度较快的方法是利用水喷淋的方法。喷洒是通过来自它自身动量的物理作用除去化学物质的。那些大量的小水滴冲击晶圆表面，可以达到与更换率极高的冲洗方法相同的效果。除了更有效的冲洗效果与溢流式冲洗相比，喷洒冲洗的用水量相当少。但当用电阻率监测器测量喷洒冲洗器中排出的水的电阻时，一个问题将随之而来，被喷射的水捕捉到的空气中的二氧化碳相当于带电的颗粒，从而被电阻率测量器视为污染物，而其实它们并不是污染物。

   泄放式冲洗的男一个好处是全部过程在一个槽中进行，节约设备和空间。它还是上个可以自动操作的系统，操作员只需将晶片放人槽中（这一操作也可自动实现）然后按下启动键即可。

   旋转淋洗烘干机：清水冲洗后，必须将晶片烘干。这并不是一个无关紧要的过程。任何保留在晶片表面的水（甚至是原子）都可能对以后的任何一步操作产生潜在的影响。目前所应用的有3种烘干技术（之间有所不同）。