室温和氧化的化学物质
发布时间:2015/10/27 20:45:57 访问次数:635
理想的清洗工艺是应用那些完全安全、易于并比较经济地进行处理的化学品,RT9167-33GB并且在室温下进行,这种工艺并不存在。然而,关于室温下化学反应的研究正在进行。其中一种38足将臭氧与另外两种浓度的氢氟酸溶液(见图5. 28)在室温下注入盛有超纯净水的清洗池。兆频超声波作为辅助以提高清洗的有效性。
喷洒清洗:标准的清洗技术是浸泡在湿法清洗台或全自动机器的化学池中进行的。当湿法清洗被应用到0. 35~0.50 ym的技术时代时,也相应出现f-些顾虑。化学品越来越多,浸泡在池中会导致污染物的再次沉积,而且晶片表面越来越小,越来越深的图形阻碍了清洗的有效性,,多样的清洗方法于是开始结合。喷洒清洗具有几个优越性。化学品直接喷到晶圆表面而无须在池中保持大量的储备,导致化学品的成本降低。化学品用量的减少也使得处理和除去运输化学废物的开销降低。清洗效果也有所提高。喷洒的压力有助于清洗晶圆表面带有深孔的很小图形,而且,再次污染的概率也会变小。喷洒的方法由于晶圆每次接触的都是新鲜的化学品,使允许清洗后藏即进行清水冲淋,而无须移至另外的一一个清水冲洗台进行.
理想的清洗工艺是应用那些完全安全、易于并比较经济地进行处理的化学品,RT9167-33GB并且在室温下进行,这种工艺并不存在。然而,关于室温下化学反应的研究正在进行。其中一种38足将臭氧与另外两种浓度的氢氟酸溶液(见图5. 28)在室温下注入盛有超纯净水的清洗池。兆频超声波作为辅助以提高清洗的有效性。
喷洒清洗:标准的清洗技术是浸泡在湿法清洗台或全自动机器的化学池中进行的。当湿法清洗被应用到0. 35~0.50 ym的技术时代时,也相应出现f-些顾虑。化学品越来越多,浸泡在池中会导致污染物的再次沉积,而且晶片表面越来越小,越来越深的图形阻碍了清洗的有效性,,多样的清洗方法于是开始结合。喷洒清洗具有几个优越性。化学品直接喷到晶圆表面而无须在池中保持大量的储备,导致化学品的成本降低。化学品用量的减少也使得处理和除去运输化学废物的开销降低。清洗效果也有所提高。喷洒的压力有助于清洗晶圆表面带有深孔的很小图形,而且,再次污染的概率也会变小。喷洒的方法由于晶圆每次接触的都是新鲜的化学品,使允许清洗后藏即进行清水冲淋,而无须移至另外的一一个清水冲洗台进行.
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