薄膜工艺
发布时间:2015/10/25 17:19:38 访问次数:353
薄膜艺( layering)是在晶圆表面形成薄膜的加]艺分析图4.5的简单MOS晶体管町以看出在晶圆表面生成r许多薄膜．这些薄膜可以是绝缘体、半导体或导SMS24T1G体它们由不同的材料，并使用多种r艺牛长或淀积而成， 各种技术用于二氧化硅层生长和各种材料的淀积（见图4.6）j通用的淀积技术是物理气相淀积( PVD)、化学气相淀积(CVD)、蒸发和溅射、分子束、外延生长、分子柬外延和原子层淀积( AI．D) 使用电镀在高密度集成电路上淀积金属化层，图4.7列出r常见的薄膜材料和薄膜1-艺。其中每项的具体情况在本书的工艺章节各有阐述ij各种薄膜在器件结构内的功用将在第16章进行解释.
薄膜艺( layering)是在晶圆表面形成薄膜的加]艺分析图4.5的简单MOS晶体管町以看出在晶圆表面生成r许多薄膜．这些薄膜可以是绝缘体、半导体或导SMS24T1G体它们由不同的材料，并使用多种r艺牛长或淀积而成， 各种技术用于二氧化硅层生长和各种材料的淀积（见图4.6）j通用的淀积技术是物理气相淀积( PVD)、化学气相淀积(CVD)、蒸发和溅射、分子束、外延生长、分子柬外延和原子层淀积( AI．D) 使用电镀在高密度集成电路上淀积金属化层，图4.7列出r常见的薄膜材料和薄膜1-艺。其中每项的具体情况在本书的工艺章节各有阐述ij各种薄膜在器件结构内的功用将在第16章进行解释.
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