铝连线在几个方面显现出局性
发布时间:2015/10/22 20:59:30 访问次数:542
产业发展到成熟时期, IRFU220NPBF就会将更多传统上的重点放在生产和市场问题上一早期的盈利策略是走发明的途径,也就是总要把最新和最先进的芯片抢先推向市场,以获得足够的可支付研发和设计费用的利润。这种策略带来的利润可以克服良品率和低效率的问题。工艺控制r.的技术(竞争)和改进把更多工业的熏点转移到了产品问题上。,几个主要的产能因素是:自动化、成本控制、工艺特性化与控制,以及人员效率(见第15章),晶圆工厂的投资巨大(10~ 30亿美元并且还在增长),其设备和工艺开发同样耗资巨大、在研发0.35 ht,m以下的技术时,X射线和深紫外线(DUV)光刻或传统光刻技术的改进都是巨大的开销,同样,在生产中也开销巨大.
半导体协会技术发展路线图( IRTS)的挑战是要求生产下一代芯片的许多工艺还处于未知或非常原始的开发状态。然而,好消息是产业正沿着演变的曲线而不是依靠革命性的突破向前推进..工程师在学会如何以技术色跃来解决问题之前,正从工艺过程中挖掘生产力。这是工业成熟的另外一个信号。
主要技术改变就是铜连线。铝连线在几个方面显现出局性,特别是和硅的接触电阻。铜是…种较好的材料,但它不易沉积和刻蚀,如果它接触到硅,会对电路造成致命的影响。IBM开发出了实用的铜工艺(见第10章和第13章),并在20世纪90年代末几乎立刻被业界所接受。
产业发展到成熟时期, IRFU220NPBF就会将更多传统上的重点放在生产和市场问题上一早期的盈利策略是走发明的途径,也就是总要把最新和最先进的芯片抢先推向市场,以获得足够的可支付研发和设计费用的利润。这种策略带来的利润可以克服良品率和低效率的问题。工艺控制r.的技术(竞争)和改进把更多工业的熏点转移到了产品问题上。,几个主要的产能因素是:自动化、成本控制、工艺特性化与控制,以及人员效率(见第15章),晶圆工厂的投资巨大(10~ 30亿美元并且还在增长),其设备和工艺开发同样耗资巨大、在研发0.35 ht,m以下的技术时,X射线和深紫外线(DUV)光刻或传统光刻技术的改进都是巨大的开销,同样,在生产中也开销巨大.
半导体协会技术发展路线图( IRTS)的挑战是要求生产下一代芯片的许多工艺还处于未知或非常原始的开发状态。然而,好消息是产业正沿着演变的曲线而不是依靠革命性的突破向前推进..工程师在学会如何以技术色跃来解决问题之前,正从工艺过程中挖掘生产力。这是工业成熟的另外一个信号。
主要技术改变就是铜连线。铝连线在几个方面显现出局性,特别是和硅的接触电阻。铜是…种较好的材料,但它不易沉积和刻蚀,如果它接触到硅,会对电路造成致命的影响。IBM开发出了实用的铜工艺(见第10章和第13章),并在20世纪90年代末几乎立刻被业界所接受。
上一篇:半导体集成电路的制造主要在中规模集成电路( MSI)的水平
上一篇:纳米时代
热门点击
- 芯片和晶圆尺寸的增大
- JP和LBL(跳转和标号)指令
- 电缆各支持点间的距离
- PE线的重复接地可以降低当相线碰壳短路时的设
- 电压损失是指线路始端电压与末端电压的代数差
- TT系统内的漏电保护器
- TN-C方式供电系统是用工作零线兼作接零保护
- 梯形图的编写规则
- 园林照明的对象不同于室内照明和建筑物景观照明
- 氧化层的去除
推荐技术资料
- 硬盘式MP3播放器终级改
- 一次偶然的机会我结识了NE0 2511,那是一个远方的... [详细]