7M2-123
7M2-123属性
- 70
- 通信设备,工业控制系统,医疗军工等行业
- 7M2-123
- 75
- coilcraft
7M2-123描述
摘要: 应用材料公司在Applied Centura® RP Epi系统设备上新开发了一套NMOS晶体管应用技术,继续保持其在外延技术方面十年来的领先地位。该应用技术的开发符合行业在20纳米节点时将外延沉积从PMOS(P型金属氧化物半导体)向NMOS(N型金属氧化物半导体)晶体管延伸的趋势,推动芯片制造商打造出更快的终端,提供下一代移动计算能力。
关键字: 晶体管,应用材料公司
“外延是高性能晶体管的基本组成部分,速度提升相当于缩放半个器件节点。”应用材料公司硅系统事业部晶体管与金属化产品副总裁Steve Ghanayem表示,“除了传统的PMOS 外延以外,通过实施NMOS外延工艺,我们能帮助晶圆代工客户进一步增强用于下一代器件的晶体管性能。”
自90纳米终端节点以来,具有即时掺杂性能的应变选择性外延膜已经改善了PMOS晶体管的迁移率,降低了电阻,从而提高了晶体管的速度。在NMOS 晶体管中采用选择性外延,具有类似的提升作用,能够增强总体芯片的性能。通过将这种技术用于这两类晶体管,应用材料公司推动了行业发展,以满足日益增长的多功能移动产品更快和更高计算能力的需求。这种性能的提升有助于客户实现更先进的功能,如提升多任务和更高品质的图形以及影像处理能力等。