单片旋转喷淋清洗机(single spray tool)有代表性的厂商是I'AM公司的型号DV系列、AMAT公司的SEMIT()OI'、DNΨ型号SU系列等,如图9.⒛所示。它们配置2~12个独立的处理室,可同时处理多达12片晶片,完成多个不同化学清洗制程。 W171DIP-7

   在单片清洗机上,每个处理室是独立的操作单元,对于要求高的出货量,可选用8个或更多处理室,使用同一个程式;而对于研究开发(R⒏D),则使用不同处理室、不同化学品、不同程式,如图9.21所示。晶片一般正面朝上,放在有多个紧固销且中间通N2的旋转平台上,

当旋转平台处于最低层位置1,启动转动,化学喷头移到品片L方,摆动喷洒药液,甩出的药 液,流到收集槽1,有泵带动循环使用,喷完之后,化学喷头移走;平台上升到最高层位置3,去离子水喷头移到晶片上方,移动喷洒去离子水,同时转速提升,去离子水和药液的混合液

被甩到相应排出管,冲洗完之后,去离子水喷头移走(有时需要第二步化学品处理,旋转平台下降到中间层位置2,其他步骤如同第一个化学品);转速进一步提升,N2管头移到晶片上方,喷出高速N2,由晶片中心向边缘扫描,反复几次,晶片表面就会变干。这种化学清洗

优点是制程时间短,节约药品和纯水,耗费低;单片清洗,交叉污染少;颗粒回粘几率小,去除干刻蚀后的残渣效果好。现在普遍应用在制程的后段,但32nm以后的制程,单片清洗也逐渐走向前段。不难发现,这种单片清洗的处理室是开放式,在药液处理完之后,用去离子

水喷洗,N2干燥。

   还有一种单片清洗方法,处理室是封闭式,如图9.22所示,在药液处理完之后,是去离子水喷洗,干燥用N2或N2携带IPA蒸汽吹干,它的特点:可制造无氧环境,在处理过程中,防止金属(如Cu)暴露于空气而被氧化;IPA的干燥更彻底。