负胶是使明昂甲的光刻胶,用于负版光刻。曝光后,窗口处的胶膜保留.未曝光的胶膜被显影液除去,SC1812ML330K图形发生反转(如图10-12所示)。负胶大多数由长链高分子有机物组成。例如,由顺聚异戊二烯和对辐照敏感的交联剂,以及溶剂组成的负胶,响应波330~430nm,胶膜厚度0,3~1um,显影液是有机溶剂,如二甲苯等。曝光的顺聚异戊二烯在交联剂作用下交联,成为体形高分子并固化,不再溶于有机溶剂构成的显影液,而未曝光的长链高分子溶于显影液,显影时被去掉。

   负胶显影后保留区的胶膜是交联高分子,在显影时,吸收显影液而溶胀。另外,交联反应是局部的,边界不齐,所以图形分辨率下降。光刻后硬化的胶膜也较难去除。但与正胶相比,负胶抗蚀性强于正胶。

   正负胶具有以下的特点:正胶,显影容易,图形边缘齐,无溶胀现象,光刻的分辨率高,去胶也较容易。负胶显影后保留区的胶膜是交联高分子,在显影时,吸收显影液而溶胀,另外,交联反应是局部的,边界不齐,所以图形分辨率下降。光刻后硬化的胶膜也较难去除。但负胶比正胶相抗蚀性强。