离子轰击靶过程是指等离子体中的离子在电场作用下加速轰击阴极靶, L78L05ACD13TR靶原子(及其他粒子)飞溅离开靶表面的过程。如图⒏18所示为离子轰击固体表面时可能发生的物理现象。即可能发生4种现象,而溅射现象仅仅是离子对固体表面轰击时可能发生的现象之一。

   究竟会出现哪一种现象主要取决于人射离子的能量。①能量很低的离子会从表面简单地反弹回气相;②能量低于10cV的离子会吸附于固体表面,以热(声子)形式释放其能量;③能量大于10keV的离子,将穿越固体表面数层原子,释放出大多数能量,改变了衬底的物理结构,成为注人离子;④能量在10eV~10keV之间时,离子的一部分能量以热的形式释放,其余部分能量转化为与表层原子碰撞造成原子逸出时的动能,逸出原子携带的能量在10~50eV之间。从固体表面逸出颗粒物质的机理相当复杂,涉及化学键的断裂和物理位移耦合作用。

   离子轰击靶的过程中,从阴极靶逸出的粒子主要是原子,总量的95%,其余是双原子(或分子)。衡量溅射效率的参数是溅射 率,即人射一个离子所溅射出的原子个数,叉称为溅射产额。