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工艺原理

发布时间:2017/5/14 18:27:27 访问次数:577

    BN源需要活化后使用,日的是在源表面形成一层鸟O3,扩散时在炉管内充满鸟O3气体。活化R3112N271A-TR一般是将硼放人炉管内,通入氧气,扩散温度保持半小时以上,化学反应过程为

    4BN+302:00~1000℃`2:2O3+2N2

    由此B扩散进人Sl。B与⒊晶格失配系数为0,254,失配大,有伴生应力缺陷,造成严重的晶格损伤。在1500℃,D⒔=10v cm2/s时,硼在硅中的最大固溶度达到4×10⒛cm3,但是最大电活性浓度是5×1019cm3。

   磷扩散

   磷扩散是n型掺杂使用最多的方法之一,目前多用固态陶瓷片源,采用开管式方法,以预淀积和再分布两步法进行。

    BN源需要活化后使用,日的是在源表面形成一层鸟O3,扩散时在炉管内充满鸟O3气体。活化R3112N271A-TR一般是将硼放人炉管内,通入氧气,扩散温度保持半小时以上,化学反应过程为

    4BN+302:00~1000℃`2:2O3+2N2

    由此B扩散进人Sl。B与⒊晶格失配系数为0,254,失配大,有伴生应力缺陷,造成严重的晶格损伤。在1500℃,D⒔=10v cm2/s时,硼在硅中的最大固溶度达到4×10⒛cm3,但是最大电活性浓度是5×1019cm3。

   磷扩散

   磷扩散是n型掺杂使用最多的方法之一,目前多用固态陶瓷片源,采用开管式方法,以预淀积和再分布两步法进行。

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