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电路的工作运行与很多因素相关

发布时间:2017/4/30 19:48:29 访问次数:436

   第—步是电路版图设计,它是半导体集成电路所独有的。电路的工作运行与很多因素相关, G30N60RUFD包括材料电阻率,材料物理特性和元件的物理尺寸。另外的因素是各个元件之间的相对定位关系。所有这些要考虑的因素决定了元件、器件、电路的物理布局和尺寸。j线路图设计开始于使崩复杂尖端的计算机辅助设计系统( CAD)将每一个电路元件转化为具体的图形和尺寸。通过CAD系统构造成电路,接下来将是把最后的设计完全复制。,得出的结果是一张展示所有子层图形的复合叠加图。此图称为复合图( composite drawing)。复合图类似于一座多层办公楼的设计图,从顶部俯视并展示所有楼层。但是,复合图是实际电路尺寸的许多倍。,制造集成电路和盖楼房同样需要一层层地建,因此必须将电路的复合图分解为每层的没计图。以一个简单的硅栅MOS晶体管举例图解了复合图形和分层图形。

   每层的图形是数字化的(数字化使图形转换为数据库)并由计算机处理的X-Y坐标的设计图。

   光刻母版和掩模版

   光刻工艺用于在晶圆表面和内部产生需要的图形和尺寸。将数字化图形转到晶圆上需要一砦加工步骤。在光刻制程中,准备光刻母版( reticle)q是其中的一个中间步骤。光刻母版是在玻璃或石英板的镀薄膜铬层上生成分层设计电路图的复制图。光刻母版

可直接用于进行光刻,也可能被用来制造掩模版。掩模版也是在玻璃底板表层镀铬。在加工完成后,在掩模版表面会覆盖许多电路图形的副本。掩模版用于在整个晶圆表面形成图形。电子束曝光系统跳过光刻母版或掩模版,并直接在晶圆表面曝光。光刻母版和掩模版的制作过程将在第10章讲述。



   第—步是电路版图设计,它是半导体集成电路所独有的。电路的工作运行与很多因素相关, G30N60RUFD包括材料电阻率,材料物理特性和元件的物理尺寸。另外的因素是各个元件之间的相对定位关系。所有这些要考虑的因素决定了元件、器件、电路的物理布局和尺寸。j线路图设计开始于使崩复杂尖端的计算机辅助设计系统( CAD)将每一个电路元件转化为具体的图形和尺寸。通过CAD系统构造成电路,接下来将是把最后的设计完全复制。,得出的结果是一张展示所有子层图形的复合叠加图。此图称为复合图( composite drawing)。复合图类似于一座多层办公楼的设计图,从顶部俯视并展示所有楼层。但是,复合图是实际电路尺寸的许多倍。,制造集成电路和盖楼房同样需要一层层地建,因此必须将电路的复合图分解为每层的没计图。以一个简单的硅栅MOS晶体管举例图解了复合图形和分层图形。

   每层的图形是数字化的(数字化使图形转换为数据库)并由计算机处理的X-Y坐标的设计图。

   光刻母版和掩模版

   光刻工艺用于在晶圆表面和内部产生需要的图形和尺寸。将数字化图形转到晶圆上需要一砦加工步骤。在光刻制程中,准备光刻母版( reticle)q是其中的一个中间步骤。光刻母版是在玻璃或石英板的镀薄膜铬层上生成分层设计电路图的复制图。光刻母版

可直接用于进行光刻,也可能被用来制造掩模版。掩模版也是在玻璃底板表层镀铬。在加工完成后,在掩模版表面会覆盖许多电路图形的副本。掩模版用于在整个晶圆表面形成图形。电子束曝光系统跳过光刻母版或掩模版,并直接在晶圆表面曝光。光刻母版和掩模版的制作过程将在第10章讲述。



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