日本的Ricllard等对杂散光的定义是:杂散光通常定义为假辐射(∞uri【,tIs Ra山atic,n)和所需要的辐射(De血ed Radiaticln)之比。

   另一种杂散光的定义是:杂散光S29AL016D70TFI010是指光学系统中除了目标光线外,扩散于探测器表面上的其他非目标光线辐射能量。

   以上几种杂散光的定义都是针对一定的应用场合定义的,如上面美国的三种定义主要是针对单色仪、分光计等设备来定义。对于任意光电系统的杂散光而言,上面的定义都不甚完善。较为严格意义的杂散光定义如下:

   杂散光,也称为杂光或杂散辐射,是指光学系统中除了成像光线外,扩散于探测器表面上的其他非成像光线的辐射能,包括通过非正常光路到达探测器的目标光线辐射能。对于可见光通道一般称为杂散光,对于红外通道则称作杂散辐射。要深入理解光电系统的杂散光,需要对光学系统中的光线进行分类,通常光学系统中到达像面的光线主要包括以下四类:

   (1)目标光线沿成像光路到达像面;

   (2)目标光线沿非成像光路到达像面;

   (3)干扰源光线沿成像光路到达像面;

   (4)干扰源光线沿非成像光路到达像面。

   这里第一类光线即为光电系统的有用信号,称为系统的成像光线;而另外三类光线是光电系统的干扰信号,统称为非成像光线。红外光电系统的成像质量受到扩散于像面上的其他非成像光束 杂散光的影响。这种非成像光包括来自于系统外部的辐射源(如太阳、月球、地球、大气等)和内部辐射源(如光学元件、机械结构件等)以及散射表面和衍射结构的非成像光能量。