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a" data-cycle-center-horz="true" data-cycle-timeout="10000" cookie-tracking="ref_page_type=SP;ref_page_sub_type=PH;ref_page_id=%7B044F94AC-FE2D-4DC7-A496-F52240B64DEE%7D;ref_page_event=Supplier%20Link;header_flag=link" style="margin-bottom:25px;font-family:Arial, Helvetica, sans-serif, dk;white-space:normal;position:relative;"> CHO-MASK® II EMI 箔带 Parker Chomerics 的 CHO-MASK II 比电镀和涂覆方法更具成本效益和环境友好性

Parker Chomerics的 CHO-MASK II 是一种 EMI 箔带，具有聚酯漆遮蔽层，旨在于涂层金属电子外壳上提供不腐蚀的导电表面。CHO-MASK II 用于需要导电的机柜或机箱的干净金属框架上。然后根据所需步骤将其上漆并固化。涂料固化后，将聚酯背衬去除，以露出一条清洁的导电路径，该路径可与 EMI 垫圈搭配使用或提供接地点。

特性 比电镀和涂覆方法更具成本效益和环境友好性 随时随地在任何温度下均可轻松取下易撕遮蔽层 遮蔽层边缘收窄，以实现涂层重叠和防腐蚀 耐溶剂/耐化学腐蚀 10,000 次开关门后保持性能 通过 MIL-STD-810 盐雾测试 箔带符合 MIL-T-47012 镀锡箔带符合 MIL-T-10727 压敏胶包含高度稳定的导电颗粒，可确保长期可靠性 与 Parker Chomerics EMI 垫圈搭配使用时，可提供有效的 EMI 屏蔽性能 应用 金属电气外壳 服务器机架 通信机架