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传统计算电路由各种“逻辑门”组成，对应的就是量子计算机的各种“量子逻辑门”。都是根据一定的规则，变化存储位的0和1。

k1是常数，不同的光刻机k1不同，λ指的是光源波长，NA是物镜的数值孔径，所以光刻机的分辨率就取决于光源波长及物镜的数值孔径，波长越短越好，NA越大越好，这样光刻机分辨率就越高，制程工艺越先进。

现在的EUV光刻机使用的是波长13.5nm的极紫外光，而普通的DUV光刻机使用的是193nm的深紫外光，所以升级到EUV光刻机可以大幅提升半导体工艺水平，实现7nm及以下工艺。

但是改变波长之后再进一步提升EUV光刻机的分辨率就要从NA指标上下手了，目前的光刻机使用的还是NA=0.33的物镜系统，下一代的目标就是NA=0.5及以上的光学系统了。

如今ASML与IMEC合作的就是高NA的EUV工艺了，双方将成立一个联合实验室，在EXE：5000型光刻机上使用NA=0.55的光学系统，更高的NA有助于将EVU光源投射到更广阔的晶圆上从而提高半导体工艺分辨率，减少晶体管尺寸。

如今这项研究才刚刚开始，所以新一代EUV光刻工艺问世时间还早，此前ASML投资20亿美元入股蔡司公司，目标就是合作研发NA=0.5的物镜系统，之前公布的量产时间是2024年，这个时间点上半导体公司的制程工艺应该可以到3nm节点了。

韩正甫说：“传统计算机是这么玩的：一排存储位写进去一个初值(比如10011001)。接下来若干步操作，每一步存储器里边的数都变换成另外一组数。走完程序停下来，把里面的数读出来，比如00101010，就是计算结果。”量子计算机同样如此。

但要强调的是： 量子计算机的结果来自概率统计。量子计算机与传统不同，它要一次次重复程序，一次次地读数(每次结果都不一样)。周而复始，足够多次(让概率的可信度超过99.99999%)后，统计出各量子位为1和0的比例，那才是需要的数字。所以碰上不太复杂的计算任务，量子计算可能比经典计算机更慢。

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