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HCNW3120-500E

发布时间:2017/7/11 22:34:00 访问次数:281 发布企业:瀚佳科技(深圳)有限公司

HCNW3120-500E 资料

数据列表 HCPL-3120/J312, HCNW3120;

标准包装 750
包装 标准卷带
类别 隔离器
产品族 隔离器 - 栅极驱动器
系列 -
其它名称 516-3207-2
HCNW3120-500E-ND


技术 光学耦合
通道数 1
电压 - 隔离 5000Vrms
共模瞬态抗扰度(最小值) 25kV/μs
传播延迟 tpLH / tpHL(最大值) 500ns,500ns
脉宽失真(最大) 300ns
上升/下降时间(典型值) 100ns,100ns
电流 - 输出高,低 2A,2A
电流 - 峰值输出 2.5A
电压 - 正向(Vf)(典型值) 1.6V
电流 - DC 正向(If) 25mA
电压 - 电源 15 V ~ 30 V
工作温度 -40°C ~ 100°C
安装类型 表面贴装
封装/外壳 8-SMD,鸥翼型
供应商器件封装 8-DIP 鸥翼型
认可 CSA,IEC/EN/DIN,UR

近年来由于各项智能设备以及人工智能的应用,人们对芯片计算能力的需

求越来越大。芯片的运算能力取决于基本运算单元电晶体的多寡,但由于

电晶体的研发已渐渐接近物理极限,无法再继续缩小,因此科学家及各个

科技大厂正在不断研究下个能使芯片运算速度提升的方法。

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其中一个半导体产业在追求的新兴技术就是三维芯片,三维芯片利用高度

的堆叠来整合不同的芯片,可以更有效利用空间、放入更多元件,增加运

算速度。

研究人员:新技术前景可期

麻省理工学院的研究员近期利用纳米碳管和电阻式存储器(RRAM)发展出

新的三维芯片制造方法,目前已发布在期刊《Nature》上。有别于传统以

矽为基础的芯片,这次芯片为纳米碳管及 RRAM 组成,由于纳米碳管电

路及 RRAM 制作时只需摄氏 200 度,因此解决了传统硅晶片制程时需要

超过摄氏 1 千度高温,会损坏三维芯片多层次结构的问题。

此外,纳米碳管和 RRAM 的能源消耗效率也比传统芯片元件佳。

该团队表示下一步将会与半导体公司合作开发新版本的三维芯片,把感测

功能及资料处理功能也加入单一芯片中。有专家表示,这项发明可能会是

延续摩尔定律的重要关键,虽然可能还需要很长时间的研究,不过前景可

让人期待的。

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