厂商尽可能利用先前的制程技术和晶圆制造设备
发布时间:2017/6/28 12:09:53 访问次数:360
- 51电子网公益库存:
- SS360NT
- TEF6621
- U79KUA
- 3144E
- 4921-5U
- 72X
- A1104EUA-T
- CQ121E
- FM2145
- HAL1820
- MLX90297
- OH137
- STM32F030K6T6
- TLE4921-5U
- US4881LSE
英特尔(intel)使用14纳米先进制程生产微处理器已有一段时间,执行长brian krzanich在2017年消费性电子展(ces)上展示内含英特尔最新10纳米cannonlake处理器的2-in-1装置。虽然业界对于10纳米的定义仍有争议,但可以确定的是,所有厂商都已开始打造10纳米产品。
此外,许多人也猜测苹果(apple) iphone 8(暂称)极可能采用包括a11 fusion芯片在内的一系列10纳米制程元件,但答案还是得等到iphone 8发布后才能确认。 http://hkhaibo.51dzw.com
市调机构international business strategies的资料显示,2017年10纳米芯片市场将达到5亿美元规模,意味相关产品会如雨后春笋般地冒出。至于10纳米怎么能在1年之内营收达到将近市场的10%?主要原因有二,一是几家晶圆代工厂技术同时提升,其次则与晶圆厂的设计有关,厂商尽可能利用先前的制程技术和晶圆制造设备,降低量产的成本和时间。并维持制程间的一贯性,降低作业成本并加快进度。
例如台积电在2016年的开放创新平台和技术论坛活动中曾表示,该公司在20到16纳米、16到10纳米以及之后的10到7纳米都维持了90%制程设备通用性。2016年首波制程设计进入风险量产,2017年这些设计以及其它设计将进入量产阶段,预计主要动能将来自高阶行动装置、大数据(big data)及资料中心使用的高效能运算需求。
7纳米在微影技术和时程方面都与过去的制程明显不同,三星便表明将于7纳米制程导入极紫外光(euv)微影技术,台积电和globalfoundries则会先以193i扫描仪及多重曝光策略为主。尽管各家的多重曝光方式不完全相同,但目标都是追求大幅减少更改及曝光次数。
2017年还会出现10纳米制程的变异产品,例如三星已经宣布第三代10纳米制程科技(10lpu),台积电持续对n16做改善,从n16ff+到n12,缩小芯片尺寸满足低功耗需求。
针对行动/远程物联网(iot)需求的一般传感器、影像传感器、应用处理器等低功耗产品也会持续推出,globalfoundries也推出物联网应用的22fdx和12fdx低功耗平台。 http://hkhaibo.51dzw.com
10纳米设计的晶圆启动次数和营收将会出现成长,7纳米的早期采用者则将完成测试芯片设计并下单。0.18微米、130纳米、65纳米、45/40纳米和28纳米制程、设计工具和规则也会因物联网应用的推动而持续改进,满足市场所需的复杂及超低功耗设计。
来源:digitimes
- 51电子网公益库存:
- SS360NT
- TEF6621
- U79KUA
- 3144E
- 4921-5U
- 72X
- A1104EUA-T
- CQ121E
- FM2145
- HAL1820
- MLX90297
- OH137
- STM32F030K6T6
- TLE4921-5U
- US4881LSE
英特尔(intel)使用14纳米先进制程生产微处理器已有一段时间,执行长brian krzanich在2017年消费性电子展(ces)上展示内含英特尔最新10纳米cannonlake处理器的2-in-1装置。虽然业界对于10纳米的定义仍有争议,但可以确定的是,所有厂商都已开始打造10纳米产品。
此外,许多人也猜测苹果(apple) iphone 8(暂称)极可能采用包括a11 fusion芯片在内的一系列10纳米制程元件,但答案还是得等到iphone 8发布后才能确认。 http://hkhaibo.51dzw.com
市调机构international business strategies的资料显示,2017年10纳米芯片市场将达到5亿美元规模,意味相关产品会如雨后春笋般地冒出。至于10纳米怎么能在1年之内营收达到将近市场的10%?主要原因有二,一是几家晶圆代工厂技术同时提升,其次则与晶圆厂的设计有关,厂商尽可能利用先前的制程技术和晶圆制造设备,降低量产的成本和时间。并维持制程间的一贯性,降低作业成本并加快进度。
例如台积电在2016年的开放创新平台和技术论坛活动中曾表示,该公司在20到16纳米、16到10纳米以及之后的10到7纳米都维持了90%制程设备通用性。2016年首波制程设计进入风险量产,2017年这些设计以及其它设计将进入量产阶段,预计主要动能将来自高阶行动装置、大数据(big data)及资料中心使用的高效能运算需求。
7纳米在微影技术和时程方面都与过去的制程明显不同,三星便表明将于7纳米制程导入极紫外光(euv)微影技术,台积电和globalfoundries则会先以193i扫描仪及多重曝光策略为主。尽管各家的多重曝光方式不完全相同,但目标都是追求大幅减少更改及曝光次数。
2017年还会出现10纳米制程的变异产品,例如三星已经宣布第三代10纳米制程科技(10lpu),台积电持续对n16做改善,从n16ff+到n12,缩小芯片尺寸满足低功耗需求。
针对行动/远程物联网(iot)需求的一般传感器、影像传感器、应用处理器等低功耗产品也会持续推出,globalfoundries也推出物联网应用的22fdx和12fdx低功耗平台。 http://hkhaibo.51dzw.com
10纳米设计的晶圆启动次数和营收将会出现成长,7纳米的早期采用者则将完成测试芯片设计并下单。0.18微米、130纳米、65纳米、45/40纳米和28纳米制程、设计工具和规则也会因物联网应用的推动而持续改进,满足市场所需的复杂及超低功耗设计。
来源:digitimes
上一篇:欧盟就垄断案开罚所缔造的纪录
下一篇:半导体研发设计
热门点击
- 赛普拉斯助力打造领先的汽车系统
- 家电产业发展趋势
- 2017全球3D NAND趋势
- WiFi替代技术
- 半导体封装与表面贴设备走向趋势
- 全球IT显示面板需求分析
- 2017年LED晶粒产能预测
- 半导体行业人才供需状况
- 芯片进入10nm时代
- 掌握核心科技
推荐电子资讯
- iPhone5S/iPhone5C获工信部认证
- 库克一直看好中国市场的巨大潜力,并且自去年3月以来他已... [详细]