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美国2Dsemiconductors薄膜

美国2Dsemiconductors薄膜产品图片
  • 发布时间:2020/3/30 11:54:32
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  • 公    司:北京杰创宏达电子有限公司
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美国2Dsemiconductors薄膜描述

美国2Dsemiconductors石墨烯薄膜产品描述
多种VDW层沉积在蓝宝石、SiO2/Si和其他定制基板上。示例材料系统包括气体、气体、门、SNS、SNSE和其他。典型的基板尺寸为1平方厘米,2维层的有效面积为0.5平方毫米。在2016-2018年期间,这些层状材料通过我们工厂建立的原子层沉积生长程序进行沉积。所有产品的纯度均为6N(99.9999%),无缺陷,电子和光学级质量。单晶尺寸比传统的CVD、MOCVD或PLD技术大得多。


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